Lepsze enkodery optyczne dzięki zaawansowanej litografii

Lepsze enkodery optyczne dzięki zaawansowanej litografii

Zaawansowane techniki litograficzne są stosowane do budowy wysoce dokładnych i powtarzalnych elementów enkoderów optycznych dla klientów o szczególnych wymaganiach. Fotograficzne matryce „chrom na szkle” są wykorzystywane do tworzenia nowych poziomów dokładności apertury w dyskach encoderów i podobnych elementach. Technika ta pozwala uzyskać tolerancję apertury na poziomie +/-1,6 mikrona. Elementy takie spełniają zatem kryteria standardu PEF (Photo ElectroFormed).

Dyski PEF są zazwyczaj cieńsze, lżejsze, solidniejsze, o niezwykle gładkich rowkach, pozostających optycznie ostrymi, które umożliwiają precyzyjne impulsy świetlne.
Typowa tolerancja PEF wynosi +/- 4 mikrony, ale możliwa jest do osiągnięcia ultra tolerancja nawet poniżej +/- 2 mikronów. Elementy z selektywnie cieńszymi obszarami, by spełnić specyficzne mechaniczne wymogi, mogą być wytwarzane z zastosowaniem drugiej fazy PEF.
Rowki o bardzo wysokiej precyzji pozostają nietknięte przy selektywnym pocienieniu dysku w innych miejscach.

(lk)